半導體工業廢水處理簡述：

  半導體生產所產生的廢水屬于工業廢水，現階段在我國國內，在電子產品應用范圍不斷擴大的令天，半導體材料對在我國的發展趨勢實際意義重特大。半導體所涉及到的領域許多，按照原材料和加工工藝的差異，所產生的廢水特點也差異，但都具備排水量大、所造成的環境污染大等特點，在嚴重威脅生態環境保護身心健康的同時，也牽制了其發展趨勢。

  按半導體材料生產制造廢水的特征，將半導體生產廢水分成三大類，其來源于主要是生產過程中產生的氟化物廢水、有機化學廢水和金屬離子廢水。

  1、含氟廢水：廢水關鍵來源于半導體材料生產制造工藝流程的浸蝕段，因為生產過程中使用了很多的鹽酸、氟化銨等實驗試劑，空氣污染物濃度值較高，如氯化物、高錳酸鹽指數等，廢水一般呈強偏堿；

  2、有機化學廢水：其空氣污染物主要是一些基本空氣污染物，生產制造濃度值與生產工藝流程和實際操作管理能力相關，COD一般在200~2500g/L上下；3、金屬離子廢水：半導體材料廢水中金屬離子類型多種，關鍵有銅、鎳、錫、鉛、銀等，一般在幾十mg/L上下。

半導體工業廢水處理難點分析：

  含氟廢水的濃度較高且處理存在一定的難度系數，一般的化學沉淀法難以徹底除去廢水中氟離子，在出水水質需求較高時，應選用多種組成加工工藝進行處理。盡管半導體材料有機化學廢水的濃度值不容易很高，可是水質差別非常大，必須按照分析檢測結果來明確水質特點。對不同類型的濃度較高的金屬離子廢水，應分別采集和處理，假如廢水中帶有多種金屬離子，則其含水量會提升。

半導體生產廢水技術工藝：

  氟化物廢水一般選用有機化學沉淀法，加藥鈣質和廢水中氟離子產生CaF2，另配以助凝劑輔助可去除廢水中氟離子。出水出水率規定高時，可與生物化學法、吸咐法等協同應用。一般選用經濟發展高效率的生物化學處理方式處理有機化學廢水，如分別好氧法或與氧氣不足厭氧發酵法融合處理，對廢水中COD、高錳酸鹽指數、高錳酸鹽指數等基本空氣污染物的除去實際效果十分不錯。針對金屬離子廢水，則必須按照廢水的差異類型進行選用，常見的有化學沉淀法，吸咐法，離子交換等。半導體材料工業化生產對水的需求非常大，對水質要求不高，為了更好地節約產品成本，春雷環境污水處理公司建議選用廢水回用處理，可以大大降低企業用水成本。